+半自动光刻机
曝光光学系统采用日本部件和技术,稳定性好,减少
后顾之忧!PC控制(优于PLC控制),可实现 “一键
控制”.防震桌 与机台一体化设计,不需要单独购置
和安装.在台湾市场占有率占70%以上,性能稳定,具
有良好的口碑.性价比高,半自动设备相当于国外手
动设备的价格,但性能比国外同等水平的产品更优
异.
半自动光刻机主要应用在半导体、分立器件、科研
院所实验室黄光光刻制程,涵盖2-12英寸晶圆.
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